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無錫221BGA-0.5P導(dǎo)電膠

發(fā)布時(shí)間:2024-12-22 10:03:07   來源:重慶易派網(wǎng)絡(luò)科技有限公司   閱覽次數(shù):22214次   

「半導(dǎo)體專題講座」芯片測(cè)試(Test)

2. 半導(dǎo)體測(cè)試(工藝方面):Wafer Test/Package Test/Module Test

從工藝步驟的角度看,半導(dǎo)體測(cè)試可分為晶圓測(cè)試(Wafer Test)、封裝測(cè)試(Package Test)、模組測(cè)試(Module Test);從功能角度看,可分為直接測(cè)試DC(Direct Current)/AC(Alternating Current)/Function/實(shí)際測(cè)試/可靠性測(cè)試等。Wafer Test包括許多基本測(cè)試項(xiàng)目,用于驗(yàn)證Fab工藝中制造的集成半導(dǎo)體電路是否正常工作。把很細(xì)的針貼在芯片基板上輸入電信號(hào)后,通過比較和測(cè)量電路產(chǎn)生的電學(xué)特性終判定(Die Sorting)。從這里出來的不良晶體管(Tr)可以繞過,也可以用良品Tr代替。這是利用激光束(Laser Beam)進(jìn)行修補(bǔ)(Repair)制成良品芯片的方式。DDR3在DDR2的基礎(chǔ)上繼承發(fā)展而來,其數(shù)據(jù)傳輸速度為DDR2的兩倍。無錫221BGA-0.5P導(dǎo)電膠

無錫221BGA-0.5P導(dǎo)電膠,導(dǎo)電膠

導(dǎo)電膠測(cè)試儀器介紹革恩半導(dǎo)體

英特爾平臺(tái)測(cè)試儀器介紹現(xiàn)有Skylake、Cannon Lake Y、ICE lake U、Tiger Lake U、Alder Lake S 平臺(tái)儀器已開發(fā)或開發(fā)中。

1. Skylake-U Based Memory Tester (DRAM Test MB)-BIOS Source (AMI-bios)-DDR4 x8 78B, x16 96B-Memory Over Clocking Test -2133MHz(LPDDR3)-LPDDR3 256B, 178B, 221B, 216B, 253B-Variable Voltage VDD1, VDD,VDDQ

2. Cannon Lake Y Memory Tester(DRAM Test MB)標(biāo)項(xiàng)-BIOS Source (AMI-bios)-LPDDR4,LPDDR4X *4EA-LPDDR4(X)32(2CS) 4 Channel -Variable Voltage VDD1, VDD2,VDDQ,measer 4pin con*3EA

3. ICE lake U Based Memory Tester (DRAM Test MB)-BIOS Source (AMI-bios)-LPDDR4(X) x32(2CS)4 Channel- Clocking Test -2133MHz(LPDDR3)-Variable Voltage VDD1, VDD2,VDDQ MEASER 4PIN CON x3EA

4. Tiger Lake U Memory Tester (DRAM Test MB)標(biāo)項(xiàng)CON x3EA5. Alder lake U Based Memory Tester (DRAM5 UDIMM Test MB)-BIOS Source (AMI-bios)--Memory Over Clocking Test -2133MHz(LPDDR3)--Variable Voltage VDD1, VDD

#Rubber Socket# #LPDDR測(cè)試 導(dǎo)電膠# #DDR測(cè)試 導(dǎo)電膠#湖州DDRX4測(cè)試導(dǎo)電膠“iSC-5G”是目前正在商用化的28GHz以上高頻5G系統(tǒng)半導(dǎo)體用測(cè)試座。5G高頻市場(chǎng)正受到進(jìn)入商用化階段。

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DDR存儲(chǔ)器有什么特性?

一:工作電壓低采用3.3V的正常SDRAM芯片組相比,它們?cè)陔娫垂芾碇挟a(chǎn)生的熱量更少,效率更高。DDR1、DDR2和DDR3存儲(chǔ)器的電壓分別為2.5、1.8和1.5V

二:延時(shí)小存儲(chǔ)器延時(shí)性是通過一系列數(shù)字來體現(xiàn)的,如用于DDR1的3-4-4-8或2-2-2-5、2-3-2-6-T1、。這些數(shù)字表明存儲(chǔ)器進(jìn)行某一操作所需的時(shí)鐘脈沖數(shù),數(shù)字越小,存儲(chǔ)越快。延時(shí)性是DDR存儲(chǔ)器的另一特性。

三:時(shí)鐘的上升和下降沿同時(shí)傳輸數(shù)據(jù)DDR存儲(chǔ)器的優(yōu)點(diǎn)就是能夠同時(shí)在時(shí)鐘循環(huán)的上升和下降沿提取數(shù)據(jù),從而把給定時(shí)鐘頻率的數(shù)據(jù)速率提高1倍。比如,在DDR200器件中,數(shù)據(jù)傳輸頻率為200MHz,而總線速度則為100MHz。

導(dǎo)電膠特點(diǎn):

DDR測(cè)試 導(dǎo)電膠導(dǎo)電膠(Silicon Roover socket)座子是改善了傳統(tǒng)半導(dǎo)體檢測(cè)用座子市場(chǎng)中主流使用的探針座子(Pogopin)的缺點(diǎn)。 比探針座子(Pogo Pin)薄,電流損耗小,電流通過速度快,在超高速半導(dǎo)體檢測(cè)時(shí)準(zhǔn)確性子損壞的風(fēng)險(xiǎn)小等特點(diǎn)。

可以廣泛應(yīng)用于邏輯芯片(AP, CPU, GPU, PMIC, RF, Sensor, Mixed signal)和存儲(chǔ)芯片(DDR,LPDDR,NAND,MCP)等測(cè)試領(lǐng)域.

革恩半導(dǎo)體業(yè)務(wù)領(lǐng)域

測(cè)試設(shè)備

0.1 基于英特爾平臺(tái)開發(fā)DDR及LPDDR顆粒及模組測(cè)試儀器,可并根據(jù)客戶需求進(jìn)行固件及軟件調(diào)試。

0.2 基于MTK平臺(tái)開發(fā)LPDDR、EMMC、UFS測(cè)試儀器,并可根據(jù)客戶需求進(jìn)行因件及軟件調(diào)試。 現(xiàn)有P60、P90、20M、21M平臺(tái)測(cè)試儀器已開發(fā)完成

0.3 高低溫測(cè)試設(shè)備及量產(chǎn)設(shè)備

#導(dǎo)電膠#針對(duì)存儲(chǔ)芯片測(cè)試座,導(dǎo)電膠Rubber Socket將成為測(cè)試座市場(chǎng)的主流。

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「半導(dǎo)體工程」半導(dǎo)體?這點(diǎn)應(yīng)該知道:(8)Wafer測(cè)試&打包工程

晶圓測(cè)試工藝的四個(gè)步驟

3)維修和終測(cè)試(Repair&FinalTest)

因?yàn)槟承┎涣夹酒强梢孕迯?fù)的,只需替換掉其中存在問題的元件即可,維修結(jié)束后通過終測(cè)試(FinalTest)驗(yàn)證維修是否到位,終判斷是良品還是次品。

4)點(diǎn)墨(Inking)

顧名思義就是“點(diǎn)墨工序”。就是在劣質(zhì)芯片上點(diǎn)特殊墨水,讓肉眼就能識(shí)別出劣質(zhì)芯片的過程,過去點(diǎn)的是實(shí)際墨水,現(xiàn)在不再點(diǎn)實(shí)際墨水,而是做數(shù)據(jù)管理讓不合格的芯片不進(jìn)行組裝,所以在時(shí)間和經(jīng)濟(jì)方面都有積極效果,完成Inking工序后,晶片經(jīng)過質(zhì)量檢查后,將移至組裝工序。高低溫測(cè)試設(shè)備及量產(chǎn)設(shè)備。廣東半導(dǎo)體導(dǎo)電膠零售價(jià)

DDR存儲(chǔ)器的優(yōu)點(diǎn)就是能夠同時(shí)在時(shí)鐘循環(huán)的上升和下降沿提取數(shù)據(jù),從而把給定時(shí)鐘頻率的數(shù)據(jù)速率提高1倍。無錫221BGA-0.5P導(dǎo)電膠

「半導(dǎo)體專題講座」芯片測(cè)試(Test)

半導(dǎo)體測(cè)試工藝FLOW

為驗(yàn)證每道工序是否正確執(zhí)行半導(dǎo)體將在室溫(25攝氏度)下進(jìn)行測(cè)試。測(cè)試主要包括Wafer Test、封裝測(cè)試、 模組測(cè)試。

Burn-in/Temp Cycling是一種在高溫和低溫條件下進(jìn)行的可靠性測(cè)試,初只在封裝測(cè)試階段進(jìn)行,但隨著晶圓測(cè)試階段的重要性不斷提高,許多封裝Burn-in項(xiàng)目都轉(zhuǎn)移到WBI(Wafer Burn-in)中。此外,將測(cè)試與Burn-in結(jié)合起來的TDBI(Test During Burn-in)概念下進(jìn)行Burn-in測(cè)試,正式測(cè)試在Burn-in前后進(jìn)行的復(fù)合型測(cè)試也有大量應(yīng)用的趨勢(shì)。這將節(jié)省時(shí)間和成本。模組測(cè)試(Module Test)為了檢測(cè)PCB(Printed Circuit Board)和芯片之間的關(guān)聯(lián)關(guān)系,在常溫下進(jìn)行直流(DC/ Direct Current)直接電流/電壓)/功能(Function)測(cè)試后,代替Burn-in,在模擬客戶實(shí)際使用環(huán)境對(duì)芯片進(jìn)行測(cè)試,無錫221BGA-0.5P導(dǎo)電膠

深圳市革恩半導(dǎo)體有限公司發(fā)展規(guī)模團(tuán)隊(duì)不斷壯大,現(xiàn)有一支專業(yè)技術(shù)團(tuán)隊(duì),各種專業(yè)設(shè)備齊全。在革恩半導(dǎo)體近多年發(fā)展歷史,公司旗下現(xiàn)有品牌GN等。公司不僅提供專業(yè)的革恩半導(dǎo)體業(yè)務(wù)領(lǐng)域:1. 測(cè)試設(shè)備01. 基于英特爾平臺(tái)開發(fā)DDR及LPDDR顆粒及模組測(cè)試儀器,并可根據(jù)客戶需求進(jìn)行固 件及軟件調(diào)試02. 基于MTK平臺(tái)開發(fā)LPDDR、EMMC、UFS測(cè)試儀器,并可根據(jù)客戶需求進(jìn)行固件及軟件調(diào)試現(xiàn)有P60、P90、G90、20M、21M平臺(tái)測(cè)試儀器已開發(fā)完成及開發(fā)中03.高低溫測(cè)試設(shè)備及量產(chǎn)設(shè)備2. Burn-in Board(測(cè)試燒入機(jī))測(cè)試儀器配件-導(dǎo)電膠、測(cè)試座子、探針04.DDR測(cè)試、導(dǎo)電膠芯片測(cè)試、技術(shù)服務(wù)支持、支持研發(fā)服務(wù),同時(shí)還建立了完善的售后服務(wù)體系,為客戶提供良好的產(chǎn)品和服務(wù)。深圳市革恩半導(dǎo)體有限公司主營(yíng)業(yè)務(wù)涵蓋芯片導(dǎo)電膠測(cè)試墊片,DDR測(cè)試、LPDDR測(cè),內(nèi)存測(cè)試儀器,內(nèi)存顆粒內(nèi)存條測(cè)試,堅(jiān)持“質(zhì)量保證、良好服務(wù)、顧客滿意”的質(zhì)量方針,贏得廣大客戶的支持和信賴。

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